Mô tả quy trình CN/TB:
Thiết bị quang khắc URE 2000S-UV được dùng để chế tạo các cấu trúc linh kiện có kích thước micro mét. Thiết bị này được sử dụng rất phổ biến trong các trường đại học và viện nghiên cứu về công nghệ MEMS.
Thông số kỹ thuật:
Nguồn sáng (đèn thủy ngân): 200 W, 350 W, 500 W, hoặc 1000 W.
Diện tích chùm sáng: 110 mm x 110 mm ~ 150 mm x 150 mm.
Độ đồng đều của chùm sáng: 3,5% (110 mm x 110 mm) ~ 5% (150 mm x 150 mm).
Độ phân giải: 0,8 ~ 1,2 um.
Kích thước wafer cho phép: 95 mm x 150 mm x 150 mm.
Kích thước mặt nạ: 4, 5, 6 inch
Độ dày chất cảm quang cho phép: 600 um.
Đường dốc của chùm sáng: 86o
|